设备性能
SDF(SSF)系列激光刻膜机采用半导体泵浦激光器(或全固态激光器)，光点固定不动，工作台带动电池板两维运动，或两维分离，光点沿X轴运动，电池板沿Y轴运动，刻膜专用X-Y工作平台，伺服驱动、滚珠丝杠与导轨传动，或X轴直线电机驱动，通过界面友好的专用控制软件，方便刻膜路径的编辑和修改，利用分光系统，同时完成两路或四路激光同步输出。
应用领域
薄膜太阳电池TCO膜、a-Si膜（μc-Si膜）、Al膜（ZnO膜)的刻膜或划线。
主要技术参数
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型号规格 |
SDF50B |
SDF10D |
SSF10B |
SSF5D |
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激光波长 |
1064nm |
532nm |
1064nm |
532nm |
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激光功率 |
50W |
10W |
10W |
5W |
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激光重复频率 |
200Hz~50kHz |
1kHz~100kHz |
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刻膜线宽 |
80μm |
50μm |
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刻膜速度 |
200mm/s |
600mm/s |
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刻膜精度 |
±10μm |
±10μm |
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工作台幅面 |
1250×640mm 或 1100×1400mm |
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冷却方式 |
恒温水冷 |
风冷 |
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