設備性能
SDF(SSF)系列激光刻膜機採用半導體泵浦激光器(或全固態激光器)，光點固定不動，工作台帶動電池板兩維運動，或兩維分離，光點沿X軸運動，電池板沿Y軸運動，刻膜專用X-Y工作平台，伺服驅動、滾珠絲杠與導軌傳動，或X軸直線電機驅動，通過界面友好的專用控制軟件，方便刻膜路徑的編輯和修改，利用分光系統，同時完成兩路或四路激光同步輸出。
應用領域
薄膜太陽電池TCO膜、a-Si膜（μc-Si膜）、Al膜（ZnO膜)的刻膜或劃線。
主要技術參數
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型號規格 |
SDF50B |
SDF10D |
SSF10B |
SSF5D |
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激光波長 |
1064nm |
532nm |
1064nm |
532nm |
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激光功率 |
50W |
10W |
10W |
5W |
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激光重複頻率 |
200Hz~50kHz |
1kHz~100kHz |
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刻膜線寬 |
80μm |
50μm |
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刻膜速度 |
200mm/s |
600mm/s |
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刻膜精度 |
±10μm |
±10μm |
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工作台幅面 |
1250×640mm 或 1100×1400mm |
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冷卻方式 |
恆溫水冷 |
風冷 |
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