設備性能
SDF(SSF)系列激光刻膜機採用半導體泵浦激光器(或全固態激光器)，光點固定不動，工作台帶動電池板兩維運動，或兩維分離，光點沿X軸運動，電池板沿Y軸運動，刻膜專用X-Y工作平台，伺服驅動、滾珠絲杠與導軌傳動，或X軸直線電機驅動，通過界面友好的專用控制軟件，方便刻膜路徑的編輯和修改，利用分光系統，同時完成兩路或四路激光同步輸出。
應用領域
薄膜太陽電池TCO膜、a-Si膜（μc-Si膜）、Al膜（ZnO膜)的刻膜或劃線。
主要技術參數
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型號規格
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SDF50B
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SDF10D
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SSF10B
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SSF5D
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激光波長
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1064nm
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532nm
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1064nm
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532nm
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激光功率
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50W
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10W
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10W
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5W
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激光重複頻率
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200Hz~50kHz
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1kHz~100kHz
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刻膜線寬
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80μm
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50μm
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刻膜速度
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200mm/s
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600mm/s
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刻膜精度
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±10μm
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±10μm
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工作台幅面
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1250×640mm 或 1100×1400mm
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冷卻方式
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恆溫水冷
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風冷
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