设备性能
SDF(SSF)系列激光刻膜机采用半导体泵浦激光器(或全固态激光器)，光点固定不动，工作台带动电池板两维运动，或两维分离，光点沿X轴运动，电池板沿Y轴运动，刻膜专用X-Y工作平台，伺服驱动、滚珠丝杠与导轨传动，或X轴直线电机驱动，通过界面友好的专用控制软件，方便刻膜路径的编辑和修改，利用分光系统，同时完成两路或四路激光同步输出。
应用领域
薄膜太阳电池TCO膜、a-Si膜（μc-Si膜）、Al膜（ZnO膜)的刻膜或划线。
主要技术参数
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型号规格
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SDF50B
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SDF10D
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SSF10B
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SSF5D
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激光波长
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1064nm
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532nm
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1064nm
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532nm
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激光功率
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50W
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10W
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10W
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5W
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激光重复频率
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200Hz~50kHz
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1kHz~100kHz
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刻膜线宽
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80μm
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50μm
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刻膜速度
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200mm/s
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600mm/s
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刻膜精度
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±10μm
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±10μm
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工作台幅面
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1250×640mm 或 1100×1400mm
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冷却方式
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恒温水冷
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风冷
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